PVD的意思是“物理氣相沉積”，這是指一種薄膜制備技術(shù)，該技術(shù)使用物理方法在真空條件下將材料沉積在要電鍍的工件上。

PVD涂層技術(shù)主要分為三類(lèi)，真空蒸發(fā)涂層，真空濺射和真空離子涂層。對應于三類(lèi)PVD技術(shù)，相應的真空鍍膜設備還具有三種類(lèi)型：真空蒸發(fā)鍍膜機，真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。在過(guò)去的十年中，真空離子鍍技術(shù)發(fā)展迅速，并且已成為當今最先進(jìn)的表面處理方法之一。我們通常所說(shuō)的PVD涂層是指真空離子涂層，PVD鍍膜機通常是指真空離子鍍膜機。

PVD涂層（離子涂層）技術(shù)的具體原理是在真空條件下使用低壓，大電流電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使目標材料蒸發(fā)并使氣化的物質(zhì)和氣體電離，并利用電場(chǎng)加速功能，將蒸發(fā)的物質(zhì)及其反應產(chǎn)物沉積在工件上。

PVD涂膜層的特性，采用PVD涂膜技術(shù)鍍膜的膜層具有高硬度，高耐磨性（摩擦因數），良好的耐腐蝕性和化學(xué)穩定性的特點(diǎn)，并且該膜具有更長(cháng)的壽命。同時(shí)，薄膜可以大大改善工件的外觀(guān)和裝飾性能。

可通過(guò)PVD涂層電鍍的薄膜類(lèi)型，PVD涂層技術(shù)是一種環(huán)保的表面處理方法，可以真正獲得微米級涂層而無(wú)污染。它可以制備各種單金屬膜（例如鋁，鈦，鋯，鉻等），氮化物膜（TiN，ZrN，CrN，TiAlN）和碳化物膜（TiC，TiCN）以及氧化物膜（例如TiO）等）。PVD涂膜層的厚度—PVD涂膜層的厚度為微米級，且厚度較薄，一般為0.3μm?5μm。裝飾涂膜層的厚度一般為0.3μm?1μm，因此幾乎不影響原始工件。在尺寸情況下，改善了工件表面的各種理化性能，以后不需要進(jìn)一步加工電鍍。

可以通過(guò)PVD涂層鍍膜的顏色類(lèi)型-目前可以通過(guò)PVD涂層鍍膜的顏色為深金黃色，淺金黃色，棕色，青銅色，灰色，黑色，灰黑色，七種通過(guò)控制涂層過(guò)程中的相關(guān)參數，可以控制電鍍顏色，涂層結束后，可使用相關(guān)儀器測量顏色，以量化顏色，以確定電鍍的顏色是否符合要求。

PVD涂層與傳統化學(xué)電鍍（水電鍍）之間的異同之處在于，PVD涂層與傳統化學(xué)電鍍之間的相似點(diǎn)和差異相似，兩者均屬于表面處理類(lèi)別，一種材料以某種方式被另一種表面覆蓋。

PVD涂層技術(shù)是當前主要的應用行業(yè)，PVD涂層技術(shù)的應用主要分為兩類(lèi)：裝飾性涂層和工具涂層。電鍍工具的目的是提高工件的表面硬度和耐磨性，降低表面的摩擦因數，并增加工件的使用壽命，這方面主要用于各種切削工具，車(chē)刀（例如車(chē)刀，刨床，銑刀），鉆頭等，各種五金工具（例如螺絲刀，鉗子等），各種模具和其他產(chǎn)品。

PVD涂層（離子涂層）技術(shù)的主要特征和優(yōu)點(diǎn)與真空蒸發(fā)涂層和真空濺射涂層相比，PVD離子涂層具有以下優(yōu)點(diǎn)：

1.薄膜層與工件表面具有很強的結合力，更耐用，更耐磨。

2.成膜速度快，生產(chǎn)效率高。

3.各種各樣的可涂層。

PVD技術(shù)的發(fā)展

PVD技術(shù)出現于20世紀70年代后期，制備的薄膜具有硬度高，摩擦因數低，耐磨性好和化學(xué)穩定性等優(yōu)點(diǎn)。在高速鋼切削刀具領(lǐng)域的成功應用引起了全球制造業(yè)的極大關(guān)注。在開(kāi)發(fā)高性能和高可靠性的涂層設備時(shí)，他們還在硬質(zhì)合金和陶瓷切削刀具中進(jìn)行了更深入的涂層應用研究。與CVD工藝相比，PVD工藝溫度低，在600℃以下對工具材料的彎曲強度沒(méi)有影響。薄膜的內部應力狀態(tài)為壓應力，更適合于硬質(zhì)合金精密和復雜工具的涂層。

PVD涂層性能特點(diǎn)：

1.優(yōu)異的附著(zhù)力-可彎曲90度以上而不會(huì )破裂或剝落（PVD涂層具有很高的附著(zhù)力和耐用性）。其他技術(shù)，包括電鍍和噴涂，無(wú)法比擬。

2.可用于室內裝飾或室外。

3.抗氧化，防腐。

上海PVD可以在不銹鋼，銅，鋅鋁合金和其他金屬上鍍金，黃銅，玫瑰金，銀白色，黑色，煙灰色，銅，棕色，紫色，藍色，酒紅色，青銅和其他顏色，可以根據具體要求提供所需的顏色和質(zhì)量。