什么是PVD鍍膜靶材?

物理氣相沉積(PVD)是一種薄膜制備技術(shù),可在真空條件下將靶材的表面物理汽化為氣態(tài)原子,分子或部分離子化為離子.然后,通過(guò)低壓氣體(或等離子體)將具有特定功能的膜沉積在基板的表面上.物理氣相沉積的主要方法包括真空蒸發(fā),濺射沉積,電弧等離子鍍,離子鍍等.PVD膜沉積速度快,附著(zhù)力強,衍射性好,應用范圍廣.

PVD鍍膜靶材的基本原理

物理氣相沉積技術(shù)的基本原理可以分為三個(gè)處理步驟:

(1)鍍層材料的氣化,即鍍層材料蒸發(fā),不類(lèi)似濺射.

(2)電鍍原子,分子或離子的遷移:原子,分子或離子碰撞后發(fā)生各種反應.

(3)電鍍原子,分子或離子沉積在基板上.