眾所周知，鍍膜的工藝有很多種類(lèi)，有常見(jiàn)的電鍍法、氧化法，還有氣相生成法、離子注入法、擴散法、涂布法、液相生成法等。

其中氣相生成法又可分為物理氣相沉積法、化學(xué)氣相沉積法和放電聚合法。

PVD工藝就是物理氣相沉積法，由于這種工藝都是在真空環(huán)境下進(jìn)行的，因此也稱(chēng)為這空離子鍍膜技術(shù)。

PVD鍍膜技術(shù)，是指在真空環(huán)境下，采用低電壓，大電流的電弧放電技術(shù)轟擊靶材，利用氣體放電，使靶材蒸發(fā)，蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離子作用，利用電場(chǎng)加速，使被蒸發(fā)的物質(zhì)及其反應產(chǎn)生的物質(zhì)沉積在工件上面。