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  1. 真空濺射離子鍍膜(PVD)服務(wù)商

    致力于高端涂層技術(shù)的研究提供成套解決方案

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    真空鍍膜系統用途及其制作方法

    時(shí)間:2022-06-23    點(diǎn)擊數:
     跟著(zhù)節能減排政策的建議,人們對低輻射鍍膜玻璃提出更高的要求。普通用于出產(chǎn)鍍膜玻璃的鍍膜段出產(chǎn)的產(chǎn)物已經(jīng)不能滿(mǎn)意人們提出的更高要求。大面積磁控濺射鍍膜出產(chǎn)線(xiàn)包括很多構成部門(mén),中岳鈦金,個(gè)中焦點(diǎn)區域是鍍膜高真空區的工藝部署,即鍍膜段?,F有技能中存在真空情況差、冷卻結果低會(huì )嚴重影響制備的膜層質(zhì)量。
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      提供一種真空鍍膜系統,本系統由真空鍍膜系統和真白手套箱系統集成而成,可在高真空蒸鍍腔室中完成薄膜蒸鍍,并在手套箱高純惰性氣體氣氛下舉辦樣品的存放、制備以及蒸鍍后樣品的檢測。蒸發(fā)鍍膜與真白手套箱組合,實(shí)現蒸鍍、封裝、測試等工藝全關(guān)閉建造,使整個(gè)薄膜發(fā)展和器件制備進(jìn)程高度集成在一個(gè)完整的可控情況氣氛的系統中,消除有機大面積電路制備進(jìn)程中大氣情況中不不變因素影響,保障了高機能、大面積有機光電器件和電路的制備。
      真空鍍膜系統主要用于太陽(yáng)能電池鈣鈦礦、OLED和PLED、半導體制備等嘗試研究與應用。


    本文網(wǎng)址:http://jmsrh.cn/news/570.html

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