真空鍍膜機PVD工藝涂層技術(shù)適用于各種加工要求和工件材料的高速鋼和硬質(zhì)合金工具，那么它有哪些優(yōu)點(diǎn)和特點(diǎn)呢？下面小編為大家詳細介紹一下：

一、技術(shù)特點(diǎn)

（1）PVD膜層能直接鍍在不銹鋼以及硬質(zhì)合金上，對比較軟的鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應先進(jìn)行化學(xué)電鍍鉻，然后才適合鍍 PVD，但是水鍍后做 PVD 容易起泡，不良率較高；

（2）典型的PVD涂層加工溫度在 250 ℃ ~ 450 ℃之間；

（3）涂層種類(lèi)和厚度決定工藝時(shí)間，一般工藝時(shí)間為3~6小時(shí)；

（4）PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄，一般為0.3μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm~1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來(lái)尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，并能夠維持工件尺寸基本不變，鍍后不須再加工；

（5）PVD技術(shù)不僅提高了鍍膜與基體材料的結合強度，涂層成分也由第一代的TiN發(fā)展為T(mén)iC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN、TiN-AlN、CNx、DLC和ta-C等多元復合涂層，形成不同的顏色的表面效果。

（6）目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色，淺金黃色，咖啡色，古銅色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。通過(guò)控制鍍膜過(guò)程中的相關(guān)參數，可以控制鍍出的顏色；鍍膜結束后可以用相關(guān)的儀器對顏色值進(jìn)行測量，使顏色得以量化，以確定所鍍出的顏色是否滿(mǎn)足要求。

二、技術(shù)優(yōu)點(diǎn)

（1）鍍層附著(zhù)性能好：普通真空鍍膜時(shí)，在工件表面與鍍層之間幾乎沒(méi)有連接的過(guò)渡層，好似截然分開(kāi)。而離子鍍時(shí)，離子高速轟擊工件時(shí)，能夠穿透工件表面，形成一種注入基體很深的擴散層，離子鍍的界面擴散深度可達四至五微米，對離子鍍后的試件作拉伸試驗表明，一直拉到快要斷裂時(shí)，鍍層仍隨基體金屬一起塑性延伸，無(wú)起皮或剝落現象發(fā)生,可見(jiàn)附著(zhù)多么牢固，膜層均勻，致密。

（2）繞鍍能力強：離子鍍時(shí)，蒸發(fā)料粒子是以帶電離子的形式在電場(chǎng)中沿著(zhù)電力線(xiàn)方向運動(dòng)，因而凡是有電場(chǎng)存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優(yōu)越得多。因此，這種方法非常適合于鍍復零件上的內孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面，蒸發(fā)料粒子尤如攀登云梯一樣，只能順梯而上；而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機，能夠沿著(zhù)規定的航線(xiàn)飛抵其活動(dòng)半徑范圍內的任何地方。

（3）鍍層質(zhì)量好：離子鍍的鍍層組織致密、無(wú)針孔、無(wú)氣泡、厚度均勻。甚至棱面和凹槽都可均勻鍍復，不致形成金屬瘤。象螺紋一類(lèi)的零件也能鍍復，有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數）、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩定性等特點(diǎn)，膜層的壽命更長(cháng)；同時(shí)膜層能夠大幅度提高工件的外觀(guān)裝飾性能。

（4）清洗過(guò)程簡(jiǎn)化：現有真空鍍膜機PVD涂層鍍膜工藝，多數均要求事先對工件進(jìn)行嚴格清洗，既復雜又費事。然而，離子鍍工藝自身就有一種離子轟擊清洗作用，并且這一作用還一直延續于整個(gè)鍍膜過(guò)程。清洗效果極好，能使鍍層直接貼近基體，有效地增強了附著(zhù)力，簡(jiǎn)化了大量的鍍前清洗工作。

（5）可鍍材料廣泛：離子鍍由于是利用高能離子轟擊工件表面，使大量的電能在工件表面轉換成熱能，從而促進(jìn)了表層組織的擴散作用和化學(xué)反應。然而，整個(gè)工件，特別是工件心部并未受到高溫的影響。因此這種鍍膜工藝的應用范圍較廣，受到的局限性則較小。通常，各種金屬、合金以及某些合成材料、絕緣材料、熱敏材料和高熔點(diǎn)材料等均可鍍復。即可在金屬工件上鍍非金屬或金屬，也可在非金屬上鍍金屬或非金屬，甚至可鍍塑料、橡膠、石英、陶瓷等。