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  1. 真空濺射離子鍍膜(PVD)服務(wù)商

    致力于高端涂層技術(shù)的研究提供成套解決方案

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    PVD鍍膜工藝新技術(shù)新趨勢

    時(shí)間:2020-09-17    點(diǎn)擊數:

    真空鍍膜隨著(zhù)PVD鍍膜技術(shù)應用的迅速推廣,吸引了國內外專(zhuān)家們和相關(guān)企業(yè)積極研發(fā),至今無(wú)論是PVD沉積技術(shù)、PVD的制備工藝,還是PVD設備配套裝備與部件,都有了長(cháng)足的進(jìn)步。

           1.冷陰極電弧 陰極電弧技術(shù)是在真空條件下,通過(guò)低電壓和高電流的弧光放電將靶材氣化、離化成等離子體狀態(tài),從而實(shí)現薄膜材料的沉積。最近陰極電弧蒸發(fā)源有新的發(fā)展,主要是通過(guò)有效強制冷卻和電磁場(chǎng)獨特的設計,在兩者共同作用下,使靶材的離化率更高,薄膜性能更加優(yōu)異。

           2.磁過(guò)濾陰極弧 配以高效的電磁過(guò)濾系統,將電弧產(chǎn)生的等離子體中的中性宏觀(guān)粒子、分子團等大顆粒過(guò)濾干凈,經(jīng)磁過(guò)濾后沉積粒子的離化率達100%,因此制備的薄膜非常致密和平整光滑,具有抗腐蝕性能好,與基體的結合力更強。

          3.柱狀或平面狀大面積電弧源 保證高離化率的同時(shí),減少大顆粒沉積的比例,達到既有好的附著(zhù)力,又有較好的表面光潔度效果。

          4.中頻磁控濺射 增加離化率,減少電荷積累引起的異常放電,預防靶表面中毒現象,沉積工藝更穩定。

          5.全封閉非平衡磁控濺射 通過(guò)全封閉非平衡電磁場(chǎng)的作用,極大地提高真空室內的離化率以及沉積速率,增強膜基結合力和薄膜沉積的均勻性。

          6.脈沖高能窄峰直流濺射 提高瞬間的轟擊能量和濺射靶材的離化率(高至50%~60%),接近電弧的離化率。通過(guò)電磁場(chǎng)的作用可以大大增加沉積離子的能量,從而改善膜層的結合力和致密性。

          7.陽(yáng)極層離子源輔助沉積 提高轟擊清洗的質(zhì)量,特別是可以實(shí)現對非導體的鍍前清洗,鍍膜時(shí)輔助沉積,提高沉積粒子的能量,改善膜層的結合力。

          8.納米復合多層膜 納米沉積技術(shù),是涂層結構未來(lái)的發(fā)展方向,通過(guò)納米級厚度的不同成份沉積層復合結構膜,實(shí)現涂層性能的極大增強。

          9.裝飾性雙色間鍍 單一的顏色PVD涂層已滿(mǎn)足不了市場(chǎng)的需求,進(jìn)而提出雙色間鍍的要求,這是裝飾涂層的發(fā)展方向,雙色間鍍的質(zhì)量成為代表PVD加工企業(yè)的生產(chǎn)技術(shù)水平標志。

          10.高能脈沖疊加直流偏壓 減少工件的打火,增加沉積離子能量,增強膜基結合力,提高沉積速率。

          11.超低溫捕集泵 通過(guò)低溫冷凝效應,迅速捕集真空系統內的殘余氣體,特別是水蒸汽,大大縮短抽真空的時(shí)間,獲得潔凈的真空環(huán)境。

          12.分子泵及深冷泵 綠色環(huán)保,大大降低能耗,真空系統抽速穩定,鍍膜工藝穩定可靠,重現性好。深冷泵還可以抽排低飽和蒸汽壓等難抽氣體,保證真空系統的潔凈度。

    本文網(wǎng)址:http://jmsrh.cn/news/473.html

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